oldal_banner

Nagy tisztaságú alumínium-oxid kerámia gyűrű CVD / PVD folyamatkamrákhoz

Nagy tisztaságú alumínium-oxid kerámia gyűrű CVD / PVD folyamatkamrákhoz

Rövid leírás:

A St.Cera kerámiagyűrűjét kifejezetten CVD (kémiai gőzfázisú leválasztás) és PVD (fizikai gőzfázisú leválasztás) folyamatkamrákban való használatra tervezték. A 99,8%-ban nagy tisztaságú alumínium-oxidból (Al₂O₃) készült gyűrű kamrabélelésként, fókuszgyűrűként vagy folyamatkészlet-alkatrészként szolgál a plazma korlátozására és a kamrafalak erózió elleni védelmére. Az anyag kiváló plazmaállóságot, nagy átütési szilárdságot (15×10⁶ V/m) és akár 1600°C-ig terjedő hőstabilitást kínál, így hosszú élettartamot biztosít agresszív fluor alapú plazmakörnyezetben. A pontos mérettűrések (±0,05 mm belső/külső átmérőn) és síkfelület (≤10 μm) lehetővé teszik az ostya élének egyenletes pozicionálását, javítva a leválasztás egyenletességét és csökkentve a részecskeképződést.


Termék részletei

Termékcímkék

A St.Cera kerámiagyűrűjét kifejezetten CVD (kémiai gőzfázisú leválasztás) és PVD (fizikai gőzfázisú leválasztás) folyamatkamrákban való használatra tervezték. A 99,8%-ban nagy tisztaságú alumínium-oxidból (Al₂O₃) készült gyűrű kamrabélelésként, fókuszgyűrűként vagy folyamatkészlet-alkatrészként szolgál a plazma korlátozására és a kamrafalak erózió elleni védelmére. Az anyag kiváló plazmaállóságot, nagy átütési szilárdságot (15×10⁶ V/m) és akár 1600°C-ig terjedő hőstabilitást kínál, így hosszú élettartamot biztosít agresszív fluor alapú plazmakörnyezetben. A pontos mérettűrések (±0,05 mm belső/külső átmérőn) és síkfelület (≤10 μm) lehetővé teszik az ostya élének egyenletes pozicionálását, javítva a leválasztás egyenletességét és csökkentve a részecskeképződést.

 

Specifikációk (99,8%-os Al₂O₃-ra vonatkoztatva):

Ingatlan Érték
Anyag 99,8% alumínium-oxid (elefántcsont)
Sűrűség 3,93 g/cm³
Vízfelvétel 0%
Hajlító szilárdság 361 MPa
Törésállóság 3–4 MPa·m¹/²
Vickers-keménység 16 GPa
Young modulusa 380 GPa
Hővezető képesség 32 W/m·k
Hőtágulás (25–1000°C) 7,2 × 10⁻⁶/℃
Átütési szilárdság 15 × 10⁶ V/m
Fajlagos ellenállás >10¹⁴ Ω·cm
Maximális üzemi hőmérséklet 1600°C

 

Alkalmazások:

  • · CVD kamra fókuszgyűrűi és élgyűrűi
  • · PVD kamravédő gyűrűk és szorítógyűrűk
  • · Maratókamra bélések és fedőgyűrűk
  • · Plazmabefogó gyűrűk dielektromos marórendszerekben

 

Gyártási folyamat:

Izosztatikus préselés → zöld megmunkálás → szinterezés 1600°C-on → CNC belső/külső csiszolás → felületcsiszolás → ultrahangos tisztítás → 100%-os CMM ellenőrzés. Az ultrasima felületkezelés (Ra ≤0,4 μm) minimalizálja a részecskék tapadását.

 

Minőségellenőrzés:

  • · 100%-os méretellenőrzés (belső átmérő, külső átmérő, vastagság, síklapúság)
  • · Festékpenetrációs vizsgálat felületi mikrorepedések szempontjából
  • · Átütési szilárdsági vizsgálat az ASTM D149 szabvány szerint
  • · 20× mikroszkóp alatt nem látható elszíneződés vagy porozitás

 

Előnyök a fém vagy kvarc gyűrűkkel szemben:

  • · 5–10× hosszabb élettartam, mint a fluorplazmában lévő alumíniumgyűrűknél
  • · Nincs fémszennyeződés a vékony filmekben
  • · Nagyobb plazma ellenállás, mint a kvarc (nincsenek eróziós gödrök)
  • · Hosszú távú használat után is megőrzi a >10¹⁴ Ω·cm elektromos szigetelést

 

Alternatív anyag — szilícium-nitrid (SiN):

A még nagyobb törési szívósságot (6,2 MPa·m¹/²) és jobb hősokk-állóságot (tágulási együttható 3,2×10⁻⁶/℃) igénylő alkalmazásokhoz Si₃N₄ gyűrűk állnak rendelkezésre. A legtöbb CVD/PVD alkalmazáshoz azonban az alumínium-oxid költséghatékonyabb. Rendeléskor kérjük, adja meg a kívánt anyagot.

 

Testreszabás:

  • · Átmenő furatok, lépcsős profilok vagy süllyesztett furatok a rögzítéshez
  • · Y₂O₃-bevonatú felület a fokozott plazma ellenállás érdekében (opcionális)
  • · Cikkszám / tételszám lézergravírozása

 

Jegyzet:A fenti adatok szigorúan a mellékelt Al₂O₃ tulajdonságtáblázatot követik. A Si₃N₄ gyűrűk esetében lásd a különálló Si₃N₄ adatlapot.


  • Előző:
  • Következő: